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產(chǎn)品詳情

  • 產(chǎn)品名稱：SHINKUU真空設(shè)備磁控濺射和親水處理

  • 產(chǎn)品型號：VES-10
  • 產(chǎn)品廠商：SHINKUU真空設(shè)備
  • 產(chǎn)品文檔：
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簡單介紹：
本設(shè)備有兩個獨立的腔室，每個腔室具有碳?xì)庀喑练e、磁控濺射和親水處理等功能。 一臺設(shè)備配備了我們的 VC-100S、MSP-1S 和 PIB-10 三種型號的性能。 兩根排氣管由外部旋轉(zhuǎn)泵排氣管切換。 此外，每個腔室可以獨立抽真空并釋放大氣，腔室可以保持真空。
詳情介紹：

用
碳?xì)庀喑练e 這是一種用于
TEM、SEM、X射線分析等的碳膜生產(chǎn)設(shè)備。 它用于防止樹脂包埋樣品的充電。

離子濺射 這是一種用于
SEM觀察的貴金屬薄膜涂層專用設(shè)備。 進(jìn)行貴金屬涂層以防止SEM樣品充電，提高二次電子生成效率。 除了磁控管靶電極的低壓放電外，樣品架還由浮動系統(tǒng)制成，以減少由于電子束流入而造成的樣品損壞。

親水處理
用于透射電子顯微鏡的網(wǎng)格網(wǎng)、火棉膠支撐膜、碳支撐膜等金剛石刀具的親水處理，以及用于清洗油污和油漬。
通過交流放電將等離子體離子照射到樣品表面。 它破壞樣品表面的化學(xué)鍵并形成官能團(tuán)。 因此，活性樣品表面與水分子之間的化學(xué)鍵得到促進(jìn)，并變得親水。
此外，還可以破壞油脂污漬等化學(xué)鍵，獲得去除污漬的效果。

輻照強(qiáng)度（SOFT/HARD）可以切換。


主要產(chǎn)品規(guī)格

項目 規(guī)范
權(quán)力 AC100V（單相100V15A）3P插頭，帶接地1件
旋轉(zhuǎn)泵 抽水速度：50l/min 重量
：14.6kg
設(shè)備大小 寬 400mm，深 360mm，底座高 280mm 碳
腔高度 +185mm 離子
腔室高度 +101mm
（設(shè)備重量：29Kg）
碳?xì)庀喑练e側(cè)規(guī)格
試樣室尺寸 內(nèi)徑 120 mm，高度 140 mm（硬玻璃）
氣相沉積源 - 樣品臺間距 直徑50mm（浮動方式）
電極與樣品的間距 可在45mm~75mm范圍內(nèi)調(diào)節(jié)
試樣載物臺尺寸 Φ100毫米
可加載樣本量 Φ98 mm，*大樣品高度 40 mm
氣相沉積電源 烘烤、排氣、蒸發(fā)。
每個固定電壓的 3 級切換，預(yù)設(shè)為*佳電壓
離子室側(cè)面規(guī)格
試樣室尺寸 內(nèi)徑 120 mm，高度 65 mm（硬玻璃）
電極-樣品臺間距 35mm固定
試樣底座尺寸 Φ50mm（浮動方式）
濺射靶電極 內(nèi)置永磁體的磁控管型靶電極
目標(biāo)金屬規(guī)格 Φ51mm，厚度0.1mm
Pt，Pt-Pd，Au，Au-Pd，Ag
濺射電源 DC500V，0~50mA（可變電阻調(diào)節(jié)）
親水處理電極 Φ50mm，SUS靶材
親水處理電源 軟：450V，10~20mA
硬：550V，20~30mA
（可選切換）



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