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產(chǎn)品詳情

  • 產(chǎn)品名稱：THERMOCERA日本射頻/直流磁控濺射系統(tǒng)

  • 產(chǎn)品型號：nanoPVD-S10A-WA
  • 產(chǎn)品廠商：THERMOCERA日本K.K
  • 產(chǎn)品文檔：
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簡單介紹：
高性能射頻/直流磁控濺射系統(tǒng)， 連續(xù)多層薄膜，雙源同時沉積，APC自動壓力控制
詳情介紹：
高性能射頻/直流磁控濺射系統(tǒng)。 雖然體積小，但即使是追求高性能且不影響薄膜質(zhì)量的用戶，例如一般金屬薄膜、絕緣體和化合物，它也是一種設(shè)備。 它還適用于具有多達 3 個源極陰極、多層連續(xù)薄膜和共沉積（***射頻和直流組合）的應(yīng)用。 還有多種選擇，例如加熱器、旋轉(zhuǎn)和提升、磁性材料陰極以及使用電容壓力計進行高精度壓力控制。

出色的基本性能

 

  • **真空 5x10-5 Pascal
  • SUS304 高真空室
  • 快速真空到達（約 10 分鐘至 1x10-3Pa）
  • 薄膜均勻性：±3%（絕緣膜），±5%（金屬膜）

高性能系統(tǒng)

 

  • 7 英寸觸摸屏，用于集中管理所有操作、薄膜沉積控制和數(shù)據(jù)管理
  • 自動連續(xù)多層沉積控制
  • 共沉積（*RF-DC和DC-DC雙源同步沉積）
  • APC控制（PID自動壓力控制）
  • PLC自動排序（吸塵和排氣）操作

很多選擇

 

  • 電路板旋轉(zhuǎn)、上/下和下降
  • PCB加熱器 500°C
  • MFC x 3（Ar、O2、N2）反應(yīng)濺射
  • 用于磁性材料的高強度磁鐵選項
  • 快速排氣（至少 6 分鐘）


主要技術(shù)指標



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