SHINKUU真空設(shè)備|北崎國際貿(mào)易（北京）有限公司

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產(chǎn)品列表

SHINKUU真空設(shè)備碳沉積設(shè)備該設(shè)備使用旋轉(zhuǎn)泵進(jìn)行碳沉積，同時(shí)使用 Pirany 真空計(jì)監(jiān)測真空度。通過不斷蒸發(fā)一定量的碳，可以實(shí)現(xiàn)高度可重復(fù)的碳沉積。請使用專用的 SLC-30 替換芯作為碳源。查看詳情
SHINKUU真空設(shè)備替換芯型碳 SLC-30 以字母 SLC 命名，代表無煙碳。顧名思義，它是一種可更換的碳，不會(huì)因烘烤而冒煙，不含油或粘合劑成分。查看詳情
SHINKUU真空設(shè)備清潔高真空沉積系統(tǒng) 樣品制備的下一步從清潔的高真空開始。這是一種使用渦輪分子泵（TMP）排氣系統(tǒng)的清潔高真空沉積系統(tǒng)。高真空有助于提高薄膜純度和密度。如果按下觸摸面板上的 EVAC START 按鈕，系統(tǒng)會(huì)自動(dòng)執(zhí)行從預(yù)排氣到高真空排氣的狀態(tài)。它是一種**設(shè)計(jì)，可通過觸摸屏+程序控制防止操作錯(cuò)誤。查看詳情
SHINKUU真空設(shè)備型臺(tái)式高真空沉積系統(tǒng) VE-2013 是一種簡化的真空沉積系統(tǒng)，繼承了 VE-2030（由我們公司制造）的概念。緊湊的外殼，外殼中內(nèi)置 TMP。由于它是桌面類型，因此不會(huì)占用太多空間。 RP 是落地式安裝的。查看詳情
SHINKUU真空設(shè)備磁控降低污染物附著力該設(shè)備將 TEM 支架存放在無油真空下。通過使用該設(shè)備，可以顯著降低污染物的附著力。它存放在單獨(dú)的真空室中，可以單獨(dú)進(jìn)出。 TEM 支架端口是根據(jù)您使用的 TEM 支架制造的。查看詳情
SHINKUU真空設(shè)備自動(dòng)涂裝功能凱焊機(jī) 配備大面積樣品臺(tái)，支持12英寸晶圓。磁控管系統(tǒng)用于減少涂層電壓為500V或更低時(shí)的離子損傷。自動(dòng)涂裝功能從脫氣到常壓氣體引入和涂裝都是全自動(dòng)的。它配備了一個(gè)向前滑動(dòng)的樣品臺(tái)，便于裝卸樣品。通過附著Ag靶材，可以很容易地對透明薄膜進(jìn)行光澤處理。查看詳情
SHINKUU真空設(shè)備自動(dòng)涂裝功能凱焊機(jī) 配備大面積樣品臺(tái)，支持12英寸晶圓。磁控管系統(tǒng)用于減少涂層電壓為500V或更低時(shí)的離子損傷。自動(dòng)涂裝功能從脫氣到常壓氣體引入和涂裝都是全自動(dòng)的。它配備了一個(gè)向前滑動(dòng)的樣品臺(tái)，便于裝卸樣品。通過附著Ag靶材，可以很容易地對透明薄膜進(jìn)行光澤處理。查看詳情
SHINKUU日本真空設(shè)備鉑金屬涂層裝置該裝置是帶有磁控管目標(biāo)的金屬涂層裝置。它用于 8 英寸晶圓等大面積樣品和大量樣品的同步處理。 MSP-8in的目標(biāo)電極沿目標(biāo)金屬表面形成多同心磁場，通過將電子捕獲在該磁場中，提高等離子體離子密度以濺射目標(biāo)金屬。磁場的強(qiáng)度結(jié)構(gòu)使得粘附的金屬膜的厚度從目標(biāo)的中心到外圍是均勻的。查看詳情

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