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產(chǎn)品列表

SHINKUU日本真空設備濺射設備通用型該裝置用于在電子顯微鏡樣品上涂覆貴金屬薄膜并進行導電處理。它易于操作，無需復雜的操作程序，并配備了一個 4 英寸的目標，甚至可以在大樣品上涂覆。查看詳情
SHINKUU日本真空設備靶材濺射涂層設備該裝置是帶有磁控管目標的金屬涂層裝置。它用于用光學顯微鏡觀察透明材料的表面（銀靶）或用電子顯微鏡處理少量導電膜（金/銀靶）的樣品。查看詳情
SHINKUU日本真空設備濺射設備標準型號這是一種用于SEM樣品的金屬涂層系統(tǒng)。查看詳情
SHINKUU日本真空設備涂覆貴金屬薄膜 SEM觀察樣品的傳導處理。為FIB制作保護膜。用于元素分析的傳導處理。此外，它還用于廣泛的用途，例如電極制造和抗氧化膜。查看詳情
SHINKUU真空設備金屬面涂金屬導電膜該裝置用于在電子顯微鏡樣品上涂上一層薄金屬膜并進行導電處理。它具有不需要復雜操作程序的可操作性。鎢主要用作靶材，還有許多其他特殊金屬可以涂覆。該電極采用風冷磁控管方法，可在低電壓下涂覆特殊金屬。（這是因為氣體中所含的電子會移動磁控管，大大提高了電離效率。它有助于顯著減少樣品損壞。查看詳情
SHINKUU日本真空設備磁控濺射沉積設備該器件是一種多用途、易于操作的磁控濺射沉積系統(tǒng)。它是一種小型桌面式和小空間設備，可以使用強磁場形成各種金屬的薄膜。查看詳情
SHINKUU日本真空設備鋨涂層裝置用于SEM和TEM的鋨涂層設備。由于粒徑細小且周轉(zhuǎn)性好，因此適用于高倍率觀察應用和形狀復雜的樣品。超薄的Os導電涂層還用于EBSD、俄歇和X射線分析。查看詳情
SHINKUU日本真空設備鋨涂層裝置該裝置是一種用于電子顯微鏡觀察的鋨涂層裝置。使用空心陰極樣品架進行低壓放電涂層，因此對樣品幾乎沒有損壞。由于在空心陰極中產(chǎn)生均勻的高密度等離子體，因此無論樣品的高度或材料如何，在放置在圓柱體中的樣品表面都會形成厚度均勻的Os膜。由于只有必要量的鋨氣體被注入空心陰極，因此消耗量很低，未反應的氣體被吸附并用活性炭捕集器去除，以抑制有害氣體釋放到大氣中。查看詳情

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