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  • RIGAKU理學(xué)X 射線膜厚和密度測量系統(tǒng) RIGAKU理學(xué)X 射線膜厚和密度測量系統(tǒng) XHEMIS EX-2000，非破壞性薄膜厚度和密度測量系統(tǒng)新的 XRR 光學(xué)元件和新開發(fā)的信號處理實現(xiàn)了高吞吐量和高動態(tài)范圍通過采用新開發(fā)的帶有高速探測器的光學(xué)系統(tǒng) 此外，通過應(yīng)用特殊的信號處理，可以獲得清晰、高動態(tài)范圍的頻譜，而且噪聲很小。 查看詳情
  • RIGAKU理學(xué)在線雙頭微點XRF無損晶圓檢測 RIGAKU理學(xué)在線雙頭微點XRF無損晶圓檢測ONYX3200，在線雙頭微點 XRF無損晶圓檢測和計量雙 X 射線源（多毛細(xì)管/單色）*大300 mm 晶圓 查看詳情
  • RIGAKU理學(xué)混合XRF和光學(xué)測量FAB工具 RIGAKU理學(xué)混合XRF和光學(xué)測量FAB工具ONYX 3000，能量色散 X 射線熒光光譜儀 （ED-XRF） 能夠以非破壞性、非接觸的方式同時分析 300 mm 和 200 mm 晶圓上各種薄膜的厚度和成分。 查看詳情
  • RIGAKU理學(xué)分析痕量從Na到U 的熒光光譜儀 RIGAKU理學(xué)分析痕量從Na到U 的熒光光譜儀TXRF-V310,采用轉(zhuǎn)子式高功率 X 射線發(fā)生器和新設(shè)計的入射 X 射線單色器。過渡金屬 LLD 10 采用直接 TXRF 測量方法8 原子/厘米2 達(dá)到水平。 在封閉 X 射線管測量時間的 1/3 內(nèi)即可實現(xiàn)相同的精度，從而實現(xiàn)高通量。 查看詳情
  • RIGAKU理學(xué)全內(nèi)反射 X 射線熒光光譜儀 RIGAKU理學(xué)全內(nèi)反射 X 射線熒光光譜儀TXRF 310Fab,采用轉(zhuǎn)子式高功率 X 射線發(fā)生器和新設(shè)計的入射 X 射線單色器。過渡金屬 LLD 10 采用直接 TXRF 測量方法8 原子/厘米2達(dá)到水平。 在封閉 X 射線管測量時間的 1/3 內(nèi)即可實現(xiàn)相同的精度，從而實現(xiàn)高通量。 查看詳情
  • RIGAKU理學(xué)全內(nèi)反射X 射線熒光光譜儀 RIGAKU理學(xué)全內(nèi)反射X 射線熒光光譜儀TXRF 3760,對晶圓表面的污染進(jìn)行無損、非接觸式和高靈敏度分析轉(zhuǎn)子式高功率 X 射線發(fā)生器和新設(shè)計的入射 X 射線單色器過渡金屬 LLD 10 采用直接 TXRF 測量方法8 原子/厘米2達(dá)到水平。 在封閉 X 射線管測量時間的 1/3 內(nèi)即可實現(xiàn)相同的精度，從而實現(xiàn)高通量 查看詳情
  • RIGAKU日本理學(xué)X 射線光譜儀WaferX 310 RIGAKU日本理學(xué)X 射線光譜儀WaferX 310 WD-XRF ,這是一種波長色散 X 射線熒光光譜儀 （WD-XRF），可以無損、非接觸地同時分析 300 mm 和 200 mm 晶圓上各種薄膜的厚度和成分 查看詳情
  • RIGAKU日本理學(xué)晶圓磁盤分析儀 RIGAKU日本理學(xué)晶圓磁盤分析儀3650,這是一種波長色散 X 射線熒光光譜儀 （WD-XRF），可以以非破壞性、非接觸的方式同時分析*大 ~200 mm 晶圓上各種薄膜的厚度和成分 查看詳情
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